3月20日至22日,半导体行业的年度盛会——SemiconChina 2024在上海新国际博览中心盛大举行。作为半导体行业最具规模和影响力的展会,今年的展会覆盖芯片设计、制造、封测、设备、材料、光伏、显示等半导体全产业链,并在展商数量、展会总面积等方面都创下新纪录。

作为行业领先的含氟电子气体供应商，泉州宇极新材料科技有限公司携最新的电子特气产品亮相展会，与客户、合作伙伴及产业人士深入交流，共同探讨半导体电子气体高效、环保的解决方案，携手共话行业技术创新和发展趋势，推动半导体行业的可持续发展。

Semicon China 2024 宇极 展位现场

性能优越  高纯环保

泉州宇极是一家专注于低GWP半导体含氟刻蚀气的高科技公司，产品具有高蚀刻速率和高选择性等优点，能够满足客户对于高性能半导体材料的需求，又兼具环保特性，多数产品ODP值为0、GWP值较低。

宇极创新“合成+提纯”贯通式开发这一独有的含氟电子特气制造新模式，建立了功能完善的分析平台和高效的纯化装置，开发了低温精馏、低温吸附等纯化技术，一氟甲烷、二氟甲烷、三氟甲烷、八氟环丁烷等产品的纯度可达5N级。

质量管控

公司实行以客户为中心、全员参与的质量方针，建立涵盖供应链、生产、检测、包装、运输、交付等的全生命周期质量管理，确保产品从原材料到成品出厂的全流程自主可控，为客户提供稳定、高质量的电子气体，拥有对接世界500强客户的丰富经验和卓越质量。

部分产品介绍

六氟丁二烯（C4F6）

作为下一代刻蚀气体，被认为是具有竞争优势的产品之一，应用于半导体行业的干法刻蚀工艺，具有刻蚀线宽窄、深宽比高、可生成聚合物保护膜对侧壁起到保护作用，以及温室效应潜值低（GWP100＜1）等特点。C4F6在0.13μm技术层面有诸多蚀刻上的优点，有比C4F8更高的对光阻和氮化硅选择比，可提高产品良率；可取代CF4，用于KrF激光锐利蚀刻半导体电容器图形（Patterns）的干法工艺。

三氟碘甲烷（CF3I）

作为高端刻蚀气体，在I2和氟碳聚合物沉积协同作用下，大幅提高刻蚀精度，且I的引入降低分子电离能，易形成F等离子体，提高刻蚀速率，用于7nm及以下线宽先进制程集成电路制造，还可以用作CVD反应腔清洗气体。CF3I环境友好，温室效应潜值低（GWP100<1）。

一氟甲烷（CH3F）

一种环境友好（GWP100=116）、高效的刻蚀气体，其具有选择性好、刻蚀速率高等优点，用于先进制程工艺的集成电路制造中的氮化膜、硅化膜的刻蚀。宇极经潜心研发，成功量产了电子刻蚀气一氟甲烷，打破国内单一厂商在该产品上的业务格局，可产出5N级高纯产品，也可以根据客户的要求，对杂质组分进行有针对性的定向去除。