半导体行业年度盛会—上海国际半导体展览SEMICON China 2025，将于3月26日—3月28日在上海新国际博览中心举行。
作为行业领先的含氟电子气体供应商，泉州宇极新材料科技有限公司将展示最新的环保刻蚀气体解决方案和产品，与业界共同探讨半导体发展趋势与未来展望。
我们诚挚地邀请各位朋友莅临宇极展位参观指导，携手开启半导体产业环保刻蚀“芯”时代，共话行业可持续发展“芯”未来！

新型环保刻蚀气体

泉州宇极突破高端电子特气的产物合成、精制提纯、分析检测、洁净充装等关键技术，自主开发了刻蚀性能和环保性能优异的含氟电子特气生产技术，向市场推出了新型环保刻蚀气体的全方位解决方案和产品，多数产品ODP值为0、GWP值低，可用于7nm以下芯片先进制程的刻蚀，推动半导体行业向更环保、可持续的制造工艺转型。

技术创新 国际领先

泉州宇极是一家专注于环境友好型含氟化合物研发和产业化的高新技术企业，拥有一支以博士和高级工程师为核心的管理及研发团队，在含氟电子气体等高端氟材料领域掌握大量核心技术，拥有90余项授权发明专利，多次获得国家级和省、部级科学技术奖励，整体技术处于国际领先水平。
公司将传统氟碳刻蚀气体品质提升至国际领先水平，并紧跟行业前沿，持续开发适配下一代刻蚀工艺和先进制程的新型气体。

高纯气体 稳定供应

泉州宇极拥有电子气体行业领先的生产和纯化工艺，创新“合成+超纯化”的贯通式生产模式，从源头上减少副产物的生成，并通过多种技术有针对性地去除杂质，产品纯度达到了国际领先水平。
公司以建设可执行并在国际领先的质量管理体系为目标，打造自供应链、生产、纯化到检测、包装、运输、交付的全生命周期管理体系，确保为客户提供高纯环保、质量稳定的电子特气。

推荐产品

六氟丁二烯（C4F6）

作为下一代刻蚀气体，被认为是具有竞争优势的产品之一，应用于半导体行业的干法刻蚀工艺，具有刻蚀线宽窄、深宽比高，以及可生成聚合物保护膜对侧壁起保护作用，温室效应潜值低（GWP100＜1）等特点。C4F6在0.13μm技术层面有诸多蚀刻上的优点，有比C4F8更高的对光阻和氮化硅选择比，可提高产品良率；可取代CF4，用于KrF激光锐利蚀刻半导体电容器图形（Patterns）的干法工艺。

三氟碘甲烷（CF3I）

作为高端刻蚀气体，在I2和氟碳聚合物沉积协同作用下，大幅提高刻蚀精度，且I的引入降低分子电离能，易形成F等离子体，提高刻蚀速率，用于7nm及以下线宽先进制程集成电路制造，还可以用作CVD反应腔清洗气体。CF3I环境友好，温室效应潜值低（GWP100<1）。

一氟甲烷（CH3F）
一种环境友好（GWP100=135）、高效的刻蚀气体，其具有选择性好、刻蚀速率高等优点，用于先进制程工艺的集成电路制造中的氮化膜、硅化膜的刻蚀。