电子气体的品质和纯度直接影响半导体器件的质量和性能。

泉州宇极拥有电子气体行业先进的生产和纯化工艺，具备高水平分析和检测能力，构建国际标准的质量管理体系，从原材料到成品出厂均经严格的质量管控，从而保证为客户提供卓越品质的电子气体产品，助力用户持续提升芯片良率，为半导体产业高质量发展提供基本保障。

贯通式生产 全链条管控

宇极立足于国际领先的催化剂开发和合成制备能力，建立了“合成+超纯”的贯通式开发体系，生产、纯化装置同步启动，打造独有的含氟电子特气制造新模式，确保产品从原材料到最终产品出厂、交付的质量可控。
公司建立了功能完善的分析平台和高效的纯化装置，开发了低温精馏、吸附等纯化技术，可高效去除微量或痕量杂质，向市场稳定供应高纯含氟电子特气。
同时，公司也可根据客户要求，可对杂质组分进行针对性定向去除。

国际标准质量体系

宇极始终坚持“以质量作为公司生存的基本法则，为客户持续提供高品质的产品和服务”的质量方针，以建设国际领先的质量管理体系为目标，取得ISO 质量管理、职业健康、环境保护等三体系认证，综合管理体系和水平达到国际标准，拥有对接世界500强客户的卓越质量。

重视用户

将用户视为质量的共同构建者，致力于成为高品质产品服务商，时刻铭记质量的结果考核来自于最终用户的体验，建立完善的客户反馈、响应机制和客服处理流程。

全员参与
建设高水平、多领域的专业人才队伍，将全体员工作为质量管理的参与者和践行者，明确各部门及人员的质量管理责任和权利，构建全员参与的质量管理体系，建立“尊重科学，遵守法律法规，一次把正确的事情做对”的质量文化。

全生命周期管理

构建从供应链、生产、纯化、检测、包装、运输、交付等在内的全生命周期质量管理体系，确保每个环节的质量管控，打造稳定的供应链体系。

推荐产品

六氟丁二烯（C4F6）

作为下一代刻蚀气体，被认为是具有竞争优势的产品之一，应用于半导体行业的干法刻蚀工艺，具有刻蚀线宽窄、深宽比高，以及可生成聚合物保护膜对侧壁起保护作用，温室效应潜值低（GWP100＜1）等特点。C4F6在0.13μm技术层面有诸多蚀刻上的优点，有比C4F8更高的对光阻和氮化硅选择比，可提高产品良率；可取代CF4，用于KrF激光锐利蚀刻半导体电容器图形（Patterns）的干法工艺。

三氟碘甲烷（CF3I）

作为高端刻蚀气体，在I2和氟碳聚合物沉积协同作用下，大幅提高刻蚀精度，且I的引入降低分子电离能，易形成F等离子体，提高刻蚀速率，用于7nm及以下线宽先进制程集成电路制造，还可以用作CVD反应腔清洗气体。CF3I环境友好，温室效应潜值低（GWP100<1）。

一氟甲烷（CH3F）

一种环境友好（GWP100=135）、高效的刻蚀气体，其具有选择性好、刻蚀速率高等优点，用于先进制程工艺的集成电路制造中的氮化膜、硅化膜的刻蚀。