高纯1,1,1,3,3,3-六氟丙烷（HFC-236fa）在半导体工业中可作为刻蚀气体，用于某些芯片的制造过程。宇极科技经潜心研发，成功研制了满足电子刻蚀纯度要求的HFC-236fa，可作为半导体企业的备选气体之一。作为含氟化工品生产企业，宇极拥有独立自主知识产权HFC-236fa的提纯工艺技术，可产出4N级高纯产品，亦可根据不同客户的要求，对杂质组分进行有针对性的定向去除。
1,1,1,3,3,3-六氟丙烷（HFC-236fa），英文名称1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropane，ODP为0，GWP为8060。CAS号690-39-1，UN号3163，化学式CF3CH2CF3。常温常压下是无色无味可液化的气体，化学稳定性好。
HFC-236fa的物化数据
HFC-236fa的应用
高纯HFC-236fa是一种新型的电子特气，用于半导体及电子产品的刻蚀。HFC-236fa也被用作重要的灭火剂原料。
